
產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2026-06-30
廠商性質(zhì):代理商
訪 問(wèn) 量 :178
028-68749778
產(chǎn)品分類(lèi)
| 品牌 | OTSUKA/大塚電子 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
日本OTSUKA大塚西南代理膜厚測(cè)定用MCPD6800

日本OTSUKA大塚西南代理膜厚測(cè)定用MCPD6800
日本OTSUKA大塚電子膜厚測(cè)定專(zhuān)用MCPD系列,是依托其標(biāo)志性“瞬間多通道測(cè)光"技術(shù)打造的高性能光譜干涉式膜厚檢測(cè)系統(tǒng),專(zhuān)為半導(dǎo)體、顯示面板、功能薄膜等行業(yè)的高精度膜厚質(zhì)控場(chǎng)景設(shè)計(jì),是兼顧實(shí)驗(yàn)室研發(fā)與工業(yè)在線監(jiān)測(cè)的通用型膜厚檢測(cè)產(chǎn)品。
該系列以多通道并行檢測(cè)架構(gòu)為核心,摒棄傳統(tǒng)光譜儀逐點(diǎn)掃描的低效模式,一次曝光即可捕獲全波段完整光譜,最快5毫秒即可完成單次測(cè)量,動(dòng)態(tài)范圍可達(dá)1,000,000:1以上,雜散光水平僅為傳統(tǒng)機(jī)型的五分之一,能精準(zhǔn)捕捉薄膜上下表面反射形成的微弱干涉信號(hào),避免雜散光干擾帶來(lái)的膜厚解析誤差。全系列支持65nm~92μm的SiO?當(dāng)量膜厚測(cè)量范圍,可覆蓋從納米級(jí)超薄氧化膜到微米級(jí)厚涂層的絕大多數(shù)工業(yè)檢測(cè)需求,部分機(jī)型還支持多層膜同步解析,適配復(fù)雜復(fù)合涂層的檢測(cè)場(chǎng)景。
產(chǎn)品采用模塊化柔性設(shè)計(jì),標(biāo)配2米長(zhǎng)的石英投受光Y型光纖,僅需將小巧的檢測(cè)探頭對(duì)準(zhǔn)待測(cè)樣品,主機(jī)即可放置在遠(yuǎn)離檢測(cè)工位的穩(wěn)定區(qū)域,輕松適配真空腔室、CMP研磨工位、成膜產(chǎn)線機(jī)臺(tái)等復(fù)雜安裝環(huán)境,無(wú)需對(duì)產(chǎn)線結(jié)構(gòu)進(jìn)行大規(guī)模改造。全系列搭載USB+LAN雙通信接口,支持遠(yuǎn)程控制與數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)上傳,可直接對(duì)接產(chǎn)線PLC系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)膜厚數(shù)據(jù)的實(shí)時(shí)反饋與工藝閉環(huán)調(diào)整,在高速運(yùn)行的薄膜生產(chǎn)線上也能完成全幅面TD方向的膜厚實(shí)時(shí)監(jiān)控。
系列內(nèi)可根據(jù)需求靈活選配機(jī)型:旗艦款MCPD-9800適配半導(dǎo)體晶圓超薄膜高精度檢測(cè),標(biāo)準(zhǔn)款MCPD-6800以高性價(jià)比覆蓋常規(guī)實(shí)驗(yàn)室與通用產(chǎn)線質(zhì)控場(chǎng)景,還可搭配不同波長(zhǎng)的檢測(cè)器主體,實(shí)現(xiàn)從深紫外220nm到近紅外1600nm的全波段覆蓋,適配ITO導(dǎo)電膜、光刻膠、AR增透膜、鋰電池功能涂層等不同材質(zhì)薄膜的專(zhuān)屬檢測(cè)需求。
掃碼加微信