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日本OTSUKA大塚西南代理膜測量系統nanoSAQ 多檢測體納米粒子徑測量系統 nanoSAQLA nanoSAQLA和自動采樣器AS50組合使用時，最多可以連續自動測量50個樣品。每個樣品的測量時間約為1分鐘，快速高效，而且在測量過程中可以添加樣品，非常適合操作簡便和縮短操作時間。細胞可以使用適用于有機溶劑的玻璃一次性細胞。
日本OTSUKA大塚西南代理膜厚測量系統GS-300 帶有模式匹配功能、X-Y位置精度在2um以下的系統。
日本OTSUKA大塚西南代理線掃描膜厚儀晶圓用半導體的研究開發以及生產現場中，能夠在晶圓基板上的薄膜進行全表面測量的裝置。 通過結合獨自的分光干涉法和新開發的高精度膜厚演算處理技術，可以高速測量12英寸晶圓的面內分布。
日本OTSUKA大塚西南代理線掃描膜厚計在線型是一款能夠在在線生產現場對薄膜厚度進行全幅、全長度測量的裝置。 通過結合我們獨自的分光干涉法和新開發的高精度膜厚計算處理技術，能夠在最短0.001秒的測量間隔內對500mm寬度（單臺使用時）的薄膜厚度進行測量。
日本OTSUKA大塚西南代理膜厚測定用MCPD6800是依托其標志性“瞬間多通道測光”技術打造的高性能光譜干涉式膜厚檢測系統，專為半導體、顯示面板、功能薄膜等行業的高精度膜厚質控場景設計，是兼顧實驗室研發與工業在線監測的通用型膜厚檢測產品。
日本OTSUKA大塚西南代理膜厚測定用MCPD9800是依托其標志性“瞬間多通道測光”技術打造的高性能光譜干涉式膜厚檢測系統，專為半導體、顯示面板、功能薄膜等行業的高精度膜厚質控場景設計，是兼顧實驗室研發與工業在線監測的通用型膜厚檢測產品。
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