日本OTSUKA大塚西南代理線掃描膜厚計在線型

日本OTSUKA大塚西南代理線掃描膜厚計在線型

日本OTSUKA大塚電子在線型線掃描膜厚計，是面向薄膜連續(xù)化生產(chǎn)場景打造的全幅面動態(tài)膜厚管控核心設(shè)備，依托大塚深耕光學(xué)干涉量測領(lǐng)域的技術(shù)積累，突破傳統(tǒng)單點(diǎn)膜厚儀只能定點(diǎn)抽檢的局限，實(shí)現(xiàn)產(chǎn)線全幅面膜厚的實(shí)時連續(xù)掃描監(jiān)測，為鋰電隔膜、光學(xué)膜、半導(dǎo)體晶圓、光伏背板等行業(yè)的高精度成膜工藝提供閉環(huán)數(shù)據(jù)支撐。

這款設(shè)備搭載大塚自研的多通道高速光譜檢測模組，采用非接觸式光學(xué)干涉原理，沿幅寬方向布置的線掃描探頭可實(shí)現(xiàn)每秒最高數(shù)千次的光譜采集，以線陣掃描的方式同步獲取整條幅寬上的膜厚分布數(shù)據(jù)，無需停機(jī)即可完成全幅面的連續(xù)檢測，檢測速度適配150~200m/min的高速產(chǎn)線運(yùn)行節(jié)奏，不會對薄膜表面造成任何劃傷、污染，適配超薄軟膜的生產(chǎn)場景。設(shè)備可覆蓋6μm~1300μm的寬量程檢測范圍，搭配不同波段的光學(xué)模組，還可向下延伸至1nm級超薄膜檢測，重復(fù)精度控制在0.01%以內(nèi)，即使是微米級的厚度波動也能精準(zhǔn)捕捉。

設(shè)備采用分體式模塊化設(shè)計，核心檢測探頭體積緊湊，可直接安裝在擠出機(jī)模頭下游、鍍膜機(jī)腔側(cè)、涂布機(jī)烘箱出口等關(guān)鍵工藝點(diǎn)位，無需對現(xiàn)有產(chǎn)線進(jìn)行大規(guī)模改造。整機(jī)適配工業(yè)級寬溫工況，搭載振動補(bǔ)償與環(huán)境光抑制機(jī)制，可在高粉塵、強(qiáng)振動的復(fù)雜車間環(huán)境下長期穩(wěn)定運(yùn)行，24小時不間斷生產(chǎn)的使用需求。系統(tǒng)內(nèi)置可視化操作界面，可實(shí)時生成全幅面膜厚分布云圖與厚度趨勢曲線，自動標(biāo)記厚度異常點(diǎn)位，同時通過LAN接口直接對接產(chǎn)線PLC系統(tǒng)，將實(shí)時膜厚數(shù)據(jù)反饋給模頭自動調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，動態(tài)調(diào)整成膜參數(shù)，將整卷薄膜的厚度均勻性提升至±0.5%以內(nèi)。